சுருக்கம்

Revealing High Fidelity of Nanomolding Process by Extracting the Information from AFM Image with Systematic Artifacts

Sajal Biring

A contact mode atomic force microscopic (c-AFM) study has been carried out to realize the high fidelity of a nanomolding process where nanostructures fabricated on a silicon master are replicated onto an aluminum surface. The AFM images of the nanostructures show systematic artifacts due to the finite size of the AFM tip and thus set a limitation to the estimation in the fidelity of the nanomolding process. The quantitative analysis presented in this letter enables to extract the parameters necessary to reveal the high fidelity of the nanomolding process while the real width and the depth of the nanostructures are still unknown. This work provides a direction to the researches in the field of atomic force microscopy of nanostructures to analyze the data accurately in presence of systematic artifacts.

குறியிடப்பட்டது

Index Copernicus
ஜே கேட் திறக்கவும்
கல்வி விசைகள்
ஆராய்ச்சி பைபிள்
CiteFactor
காஸ்மோஸ் IF
RefSeek
ஹம்டார்ட் பல்கலைக்கழகம்
அறிஞர்
சர்வதேச புதுமையான இதழ் தாக்க காரணி (IIJIF)
சர்வதேச அமைப்பு ஆராய்ச்சி நிறுவனம் (I2OR)
காஸ்மோஸ்
மருத்துவக் கல்வி மற்றும் ஆராய்ச்சிக்கான ஜெனீவா அறக்கட்டளை
ரகசிய தேடுபொறி ஆய்வகங்கள்

மேலும் பார்க்க